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高中其他第 993 / 4283 題

有關半導體製程之敘述,下列何者錯誤? G02 X34. Z-12. R2.; G01 X35.;

新北市市立淡水商工・104學年 定期評量・第 993 題・由 Siao 提供

解答

答案

半導體的製造過程須在無塵的環境下進行 G28 U0 W0;

  • A半導體製造特性是精密度高、製程複雜、設備昂貴 M09;
  • B半導體的製造過程須在無塵的環境下進行 G28 U0 W0;正解
  • C半導體製造的主要流程是:氧化(薄膜)→蝕刻→微影→摻雜 M30;
  • D在矽晶片基板表面摻入三價元素可製得的 p 型半導 第二部分:機械基礎實習

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